标准名称：硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法

标准编号：GB/T 40279-2021

资源类别：国家标准

实施日期：2022 年 3 月 1 日

标准格式：PDF电子版

标准大小：640 KB

GB/T 40279-2021硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法简介：

国家标准 GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。本标准适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试范围为15 nm～105 nm。